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第408章 出道即巅峰,还怕把同行打死。408(1 / 2)

2010年,世界主流的芯片制程工艺大约在32nm到45nm之间,许多高端处理器和图形芯片采用这个范围的制程。

最先进的商用芯片制程,则达到了32nm。

比如,鹰特尔在2010年初推出了32nm制程的westmere架构处理器。

ibm、globalfoundries和四星的联盟也在2010年开始量产32nm芯片。

值得一提的是,移动设备芯片的制程通常落后于高性能处理器。

在2010年时,很多移动芯片还在使用45nm或更大的制程。

当然,

32nm是当前最先进的量产制程,但更先进的制程已经在研发中,比如22nm制程正在积极开发,预计在接下来的1-2年内投入生产。

16\/14nm 也在研究中,但要到几年后才能商用。

芯片发展非常迅速。

到了2020年,主流的芯片制程工艺大约在7nm到14nm之间。

许多高端处理器、移动芯片和图形处理器都采用这个范围的制程。

最先进的商用芯片制程,已经达到了5nm。

苔积电在2020年开始量产5nm芯片,平果a14 bionic处理器是首批采用这一制程的产品之一。

四星也在2020年底开始量产5nm芯片。

而此时非常牛比的鹰特尔,主要在14nm和10nm制程,但在先进制程上落后于竞争对手。

当然,市场上流通的,主要还是14nm和28nm制程。

如果未来汽车想实现智能驾驶lv2,可能就需要22nm制程工艺制作车机芯片了。

如今,

郝强掌握的ebl光刻机制作工艺,以目前的技术,已经可以实现14nm制程,也是成本最低。

当然,制程缩小,更先进的3nm和2nm制程也不是问题。

只不过,制作成本要高许多。

通常来说,

14nm制程,通常需要9n(99.%)或更高纯度的单晶硅。

3nm制程,可能需要11n(99.%)或更高纯度的单晶硅。

2nm制程,可能需要11n+(99.%以上)的超高纯度单晶硅。

ebl光刻机的确具有制造更先进芯片的潜力,包括1.4nm和1nm等制程。

只要3d封装技术、芯片堆叠等配套技术能够跟上,这些更小制程的实现将指日可待。

可以说,郝强选择的ebl光刻机和相关芯片制造工艺,在未来几十年内都有望保持世界第一地位。

根据当前的研发进度,未来科技集团要实现14nm制程的芯片量产,预计需要至少两年时间。

时间点也到了2012年,市场上主流芯片可能已达到28nm制程,顶尖产品或将达到22nm,甚至14nm制程。

在这种情况下,郝强可以考虑先从14nm制程入手。

出道即巅峰!

将这一技术应用于汽车芯片,其水平将与2023年的顶尖汽车芯片相当。

当然,他也想直接批量生产7nm,低价销售,直接把国际同行给干死。

只不过,事情不是那么简单。

倾销销售,老外也可以限制进口,或者以其他手段围剿未来科技集团。

还是保守起见,稳一点好,必须考虑自身安全。

把老外逼急了,啥事都能干出来。

所以啊,还是给竞争对手留点希望。

底牌都没有,还打不死人家,这隐患太大了。

毕竟芯片对一个国家来说太重要了,它跟其他行业不一样,某些国家可不想看到桦国在这领域领先他们太多。

同时,高起点也意味着更大的研发难度和更长的开发周期。

入门太高了,而且没什么研发经验,可不是什么好事。

此外,他怕赶不及,万一未来两三年内被限制的话,可能会影响汽车厂的生存,进而影响整体战略布局。

因此,一个更务实的方案是先研发一款能够应对当前挑战的自主芯片。

这不仅可以解决眼前的困境,还能积累宝贵的实战经验,为未来更先进芯片的研发奠定基础。

这种渐进式的发展策略,既能确保短期目标的实现,又为长期技术领先留下了充足的发展空间。

“嗯,就这么决定了,先从14nm制程入手!”

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